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光学膜用EB枪

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产品名称: 光学膜用EB枪
产品型号: EGO-406M
产品厂商: 岩濑商事
产品品牌: ULVAC
产品文档: 无相关文档

光学膜用EB枪  的详细介绍

ULVAC 光学膜用EB枪 EGO-406M

特点
高性能偏转线圈提供出色的扫描性能和稳定，均匀的成膜工艺。
用途
电子束蒸发的蒸发源
规格

型号 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M
光束偏转角度 270°
坩埚数量 0 4 6 6
坩埚容量 - 10cc ×2 / 40cc ×2 20cc 40cc
冷却水量 坩埚 - 10L/min 10L/min 10L/min
线圈 2L/min - - -
外形尺寸　W×D×H 168×285×174mm 170×309×174mm 200×339×176mm 200×339×176mm
重量 10kg 18kg 18kg 18kg
适用电源 HPS-1000N-G100/G200
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