ULVAC 光学膜用EB枪 EGO-1G
特点 高性能偏转线圈提供出色的扫描性能和稳定，均匀的成膜工艺。 用途 电子束蒸发的蒸发源 规格 型号 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M 光束偏转角度 270° 坩埚数量 0 4 6 6 坩埚容量 - 10cc ×2 / 40cc ×2 20cc 40cc 冷却水量 坩埚 - 10L/min 10L/min 10L/min 线圈 2L/min - - - 外形尺寸 W×D×H 168×285×174mm 170×309×174mm 200×339×176mm 200×339×176mm 重量 10kg 18kg 18kg 18kg 适用电源 HPS-1000N-G100/G200
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