ULVAC 金属、半导体用电阻测量装置 TER-2000RH
特点 可以在恒温升/降温过程和恒温保持过程中测量电阻 通过直流四端子方法可以进行高精度测量 测量不受热电动势的影响 用途 金属的相变,时效析出,再结晶等研究 非晶态金属的再结晶分析 形状记忆合金的研究与开发 半导体材料的各温度下的电阻测量 规格 型号 TER-2000RH TER-2000L 温度范围 RT ~ 1400℃ -150℃~200℃ 测量方法 直流四端子法 测量范围 100Ω~5×10-5Ω 样品尺寸 Φ 10 × L 100 (mm) 大气 惰性气体、空气、真空(可选)
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