ULVAC 溅射设备 RFS-201
特点 绝缘,金属,半导体材料的溅射设备。 主泵使用油扩散泵。 可以在Φ80mm×1阴极上单层成膜。 通过传统溅射,溅射速度可达到20nm/min(SiO2)
规格
效用
[標準]
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